半導体高温オーブン — EUT91 / EUT216 / EUT512 / EUT1000

TestEQ EUTシリーズ高温オーブンは、電気加熱・空気循環式のチャンバーであり、ウェハのベーキングと脱水、部品の乾燥、ポリマーおよびフォトレジストのキュアリング、パッケージのベーキングに使用されます。安定した温度制御と再現性のある熱サイクルが重要な半導体製造、電子機器生産、材料加工の分野で使用されています。

用途

  • ウェハのベーキングおよびウェハの脱水
  • フォトレジストおよびポリマーの熱処理
  • 半導体パッケージング:ダイアタッチキュア、エポキシキュア、アンダーフィルキュア
  • ICパッケージのベーキングおよびモールド後の熱処理
  • 半導体部品の乾燥および除湿
  • 電子部品のベーキングおよびエージング
  • クリーンな熱処理およびプロセス開発(R&D)

構成と特長

  • 温度範囲は標準でRT~200 °C、オプションで300~500 °Cに対応可能です。
  • 温度変動幅 ≤ ±0.5 °C、温度偏差 ≤ ±2.0 °C。
  • RTから200 °Cまでの昇温時間は約35分です。
  • SSR(ソリッドステートリレー)を使用した非接触・等周期パルス幅変調加熱制御。
  • 温度測定にはK型シース熱電対を採用しています。
  • ワークボリューム全体に均一に熱を分布させる空気循環方式。
  • 多層棚を備えたステンレス鋼製チャンバー構造。
  • PLCまたはタッチスクリーンコントローラー。データロギング、リモートモニタリング、MES連携はオプションで対応可能です。
  • 安全機能:漏電遮断器、ファン過熱保護、過温度保護、温度ヒューズ、ダクト異常過温度保護。
  • RT~200 °Cモデルには観察用ガラス窓を装備。200 °C~500 °C仕様には観察用ガラス窓は付属しません。
  • オプション構成には、窒素不活性オーブン、真空オーブン、クラス100クリーンオーブン、マルチチャンバーオーブン、自動搬送システム、データロギングシステム、MES通信インターフェースがあります。
  • チャンバー寸法、ウェハキャリア、棚、治具はご要望に応じてカスタマイズ可能です。

仕様

モデルラインナップ

項目EUT91EUT216EUT512EUT1000
容量(m³)0.0910.2160.5121.0
内寸 WxHxD(mm)450x450x450600x600x600800x800x8001000x1000x1000
外寸 WxHxD(mm)1040x820x6351190x970x7851500x1210x10651730x1480x1275

共通仕様

項目値
モデルシリーズ高温オーブン、EUT
温度範囲RT~200 °C(300~500 °Cはオプション)
温度変動幅≤ ±0.5 °C
温度偏差≤ ±2.0 °C
昇温速度RT~200 °C、約35分
加熱制御方式非接触・等周期パルス幅変調、SSR(ソリッドステートリレー)
温度測定K型シース熱電対
安全機能漏電遮断器、ファン過熱保護、過温度保護、温度ヒューズ、ダクト異常過温度保護
観察用ガラス窓RT~200 °C:観察用ガラス窓付き。200 °C~500 °C:観察用ガラス窓なし
電源AC220V、単相3線、50/60Hz;AC380V、三相5線、50/60Hz

規格

本オーブンは、半導体製造、パッケージング、信頼性認定に関連する熱処理に対応するよう構成できます。適用規格は、具体的なプロセス、製品、お客様の認定要件によって異なります:

  • JEDEC JESD22信頼性規格 — 半導体デバイスおよびパッケージの一般的な信頼性試験方法。
  • JEDEC JESD22-A104温度サイクル — 半導体の信頼性評価に使用される温度サイクル方法。
  • SEMI規格 — 用途に応じた関連する半導体製造慣行および装置要件。

最終仕様は、単一の規格だけでなく、実際の熱プロセス、温度均一性、雰囲気、清浄度、積載方法、生産要件に基づいて設定する必要があります。チャンバーのサイズ選定や、ウェハ・パッケージ・治具に合わせた構成の検討については、製品寸法、必要な温度プロファイル、雰囲気、積載方法を添えてお問い合わせください 。関連:高低温湿度試験槽 、カスタム非標準試験槽 。

試験規格と供試品をお知らせください

試験規格、供試品の寸法と発熱量、温度または圧力範囲をお知らせください。エンジニアが装置構成をご提案します。