Термовакуумная система отчистки TestEQ сочетает контролируемый нагрев, вакуумную откачку и опциональную продувку инертным газом для удаления остаточной влаги, летучих соединений и углеводородов из деталей полупроводникового оборудования. Она разработана для полупроводниковых фабрик, производителей оборудования, предприятий по восстановлению компонентов и производств с высокими требованиями к чистоте, которым необходима воспроизводимая термообработка и контроль загрязнений.
Применение
- Сушка и подготовка деталей полупроводникового оборудования
- Вакуумный отжиг прецизионных компонентов
- Удаление влаги и летучих органических остатков
- Снижение газовыделения для вакуумно-совместимых сборок
- Отчистка и подготовка компонентов технологических камер
- Сушка после водной или растворительной отчистки
- Предварительная подготовка компонентов перед монтажом
Конфигурация и особенности
- Камера откачивается вакуумной системой, подобранной под требуемый диапазон давления, объём камеры и технологическую загрузку.
- Контролируемый нагрев по заданному температурному рецепту с программируемыми термическими профилями.
- Этап вакуумного отжига, непрерывно удаляющий выделяющиеся загрязнения.
- Опциональная продувка азотом или совместимым инертным газом для циклического изменения давления, охлаждения или удаления остаточных летучих веществ.
- Контролируемая последовательность охлаждения и напуска перед возвратом камеры к атмосферному давлению.
- Камера из низкогазовыделяющих материалов SUS304 / SUS316L и оснастка под конкретные компоненты.
- Управление ПЛК + сенсорный ЧМИ с управлением рецептами, регистрацией данных, сигнализацией и блокировками.
- Полностью автоматический или полуавтоматический режим работы.
- Номер патента CN202510795397.6.
Технические характеристики
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Уровень вакуума | ≤ -0,1 МПа (настраивается) |
| Диапазон температур | от температуры окружающей среды до 450 °C |
| Точность контроля температуры | ±1 °C |
| Материал камеры | низкогазовыделяющая нержавеющая сталь SUS304 / SUS316L |
| Режим нагрева | комбинированный радиационный / кондуктивный нагрев |
| Режим отчистки | термический + вакуумный + опциональная газовая поддержка |
| Время цикла | 30–120 минут |
| Система управления | ПЛК + сенсорный ЧМИ |
| Автоматизация | полностью автоматический / полуавтоматический |
Фактический диапазон температур, предельный вакуум, скорость откачки, скорость нагрева, термическая однородность и время цикла подтверждаются под компонент заказчика, уровень загрязнения и требуемую технологическую спецификацию. Размеры камеры, диапазон температур, вакуумная архитектура, оснастка, продувка газом и регистрация данных могут быть настроены.
Стандарты
Применимые требования к чистоте, совместимости материалов и вакууму зависят от производственного процесса и спецификации компонентов заказчика. Соответствующие области включают требования SEMI к полупроводниковому производству, стандарты чистых помещений и контроля загрязнений ISO 14644 и оценку газовыделения по ASTM E595.
Чтобы определить камеру, вакуумную систему, оснастку и технологический рецепт, свяжитесь с нами , указав габариты компонента, материал, тип загрязнения, требуемую температуру и уровень вакуума. См. также: Термовакуумная камера , Индивидуальная нестандартная испытательная камера .