ระบบทำความสะอาดด้วยสุญญากาศและความร้อน

ระบบทำความสะอาดด้วยสุญญากาศและความร้อนของ TestEQ ผสมผสานการให้ความร้อนแบบควบคุม การดึงสุญญากาศ และการไล่ก๊าซเฉื่อยเสริม เพื่อกำจัดความชื้นตกค้าง สารประกอบระเหยง่าย และไฮโดรคาร์บอนออกจากชิ้นส่วนอุปกรณ์การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ระบบนี้สร้างขึ้นสำหรับโรงงานผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ผู้ผลิตอุปกรณ์ สถานที่ปรับปรุงชิ้นส่วน และสภาพแวดล้อมการผลิตที่มีความบริสุทธิ์สูง ซึ่งต้องการกระบวนการทางความร้อนที่ทำซ้ำได้และการควบคุมการปนเปื้อน

การใช้งาน

  • การอบแห้งและเตรียมชิ้นส่วนอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์
  • การอบไล่ก๊าซด้วยสุญญากาศของชิ้นส่วนที่มีความแม่นยำสูง
  • การกำจัดความชื้นและกำจัดสารตกค้างอินทรีย์ระเหยง่าย
  • การลดการระเหยของก๊าซสำหรับชุดประกอบที่เข้ากันได้กับสุญญากาศ
  • การทำความสะอาดและเตรียมชิ้นส่วนของห้องกระบวนการ
  • การอบแห้งหลังการทำความสะอาดด้วยน้ำหรือตัวทำละลาย
  • การปรับสภาพชิ้นส่วนก่อนการติดตั้ง

การกำหนดค่าและคุณสมบัติ

  • ห้องถูกดึงอากาศออกด้วยระบบสุญญากาศที่เลือกตามช่วงความดันที่ต้องการ ปริมาตรห้อง และภาระของกระบวนการ
  • การให้ความร้อนแบบควบคุมตามสูตรอุณหภูมิที่กำหนด พร้อมโปรไฟล์ความร้อนที่ตั้งโปรแกรมได้
  • ขั้นตอนการอบไล่ก๊าซด้วยสุญญากาศที่ดึงสิ่งปนเปื้อนที่ปล่อยออกมาอย่างต่อเนื่อง
  • การไล่ก๊าซไนโตรเจนหรือก๊าซเฉื่อยที่เข้ากันได้เป็นทางเลือก สำหรับการวนรอบความดัน การทำความเย็น หรือการกำจัดสารระเหยตกค้าง
  • ลำดับการทำความเย็นและการระบายอากาศแบบควบคุมก่อนที่ห้องจะกลับสู่ความดันบรรยากาศ
  • ห้องทำจาก SUS304 / SUS316L ที่มีการระเหยของก๊าซต่ำ และอุปกรณ์จับยึดเฉพาะสำหรับชิ้นส่วนแต่ละชนิด
  • การควบคุมด้วย PLC + HMI หน้าจอสัมผัส พร้อมการจัดการสูตร การบันทึกข้อมูล สัญญาณเตือน และการล็อกอินเตอร์ล็อก
  • การทำงานแบบอัตโนมัติเต็มรูปแบบหรือกึ่งอัตโนมัติ
  • หมายเลขสิทธิบัตร CN202510795397.6

ข้อมูลจำเพาะ

พารามิเตอร์ค่า
ระดับสุญญากาศ≤ -0.1 MPa (ปรับแต่งได้)
ช่วงอุณหภูมิอุณหภูมิห้องถึง 450 °C
ความแม่นยำในการควบคุมอุณหภูมิ±1 °C
วัสดุห้องเหล็กกล้าไร้สนิม SUS304 / SUS316L ที่มีการระเหยของก๊าซต่ำ
โหมดการให้ความร้อนการให้ความร้อนแบบผสมผสานการแผ่รังสี / การนำความร้อน
โหมดการทำความสะอาดความร้อน + สุญญากาศ + การช่วยด้วยก๊าซเป็นทางเลือก
ระยะเวลารอบ30–120 นาที
ระบบควบคุมPLC + HMI หน้าจอสัมผัส
ระบบอัตโนมัติอัตโนมัติเต็มรูปแบบ / กึ่งอัตโนมัติ

ช่วงอุณหภูมิจริง สุญญากาศสูงสุด ความเร็วในการสูบ อัตราการให้ความร้อน ความสม่ำเสมอทางความร้อน และระยะเวลารอบ จะได้รับการยืนยันตามชิ้นส่วน ระดับการปนเปื้อน และข้อกำหนดกระบวนการที่ต้องการของลูกค้า ขนาดห้อง ช่วงอุณหภูมิ โครงสร้างสุญญากาศ อุปกรณ์จับยึด การไล่ก๊าซ และการบันทึกข้อมูล สามารถปรับแต่งได้

มาตรฐาน

ข้อกำหนดด้านความสะอาด ความเข้ากันได้ของวัสดุ และสุญญากาศที่เกี่ยวข้อง ขึ้นอยู่กับกระบวนการผลิตและข้อกำหนดชิ้นส่วนของลูกค้า ขอบเขตที่เกี่ยวข้องรวมถึงข้อกำหนดการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ SEMI มาตรฐานห้องสะอาดและการควบคุมการปนเปื้อน ISO 14644 และการประเมินการระเหยของก๊าซ ASTM E595

ในการกำหนดห้อง ระบบสุญญากาศ อุปกรณ์จับยึด และสูตรกระบวนการ ติดต่อเรา พร้อมขนาดชิ้นส่วน วัสดุ ประเภทการปนเปื้อน อุณหภูมิและระดับสุญญากาศที่ต้องการ ที่เกี่ยวข้อง: ห้องสุญญากาศและความร้อน , ห้องทดสอบสั่งทำพิเศษ

แจ้งมาตรฐานการทดสอบและชิ้นงานทดสอบ

ส่งมาตรฐานการทดสอบ ขนาดและความร้อนของชิ้นงาน ช่วงอุณหภูมิหรือแรงดัน วิศวกรของเราจะเสนอรูปแบบห้องทดสอบที่เหมาะสม