TestEQ EUT 系列高溫烤箱是一款電加熱、空氣循環式箱體,用於晶圓烘烤與脫水、元器件乾燥、聚合物與光阻固化以及封裝烘烤。它應用於半導體製造、電子產品生產和材料加工領域,這些領域對穩定的溫度控制和可重複的熱循環有較高要求。
應用
- 晶圓烘烤與晶圓脫水
- 光阻與聚合物熱處理
- 半導體封裝:晶片貼裝固化、環氧固化、底部填充固化
- IC 封裝烘烤與模塑後熱處理
- 半導體元器件乾燥與除濕
- 電子元器件烘烤與老化
- 潔淨熱處理與製程開發(研發)
配置與特點
- 溫度範圍標配 RT 至 200 °C;可選 300–500 °C。
- 溫度波動度 ≤ ±0.5 °C,溫度偏差 ≤ ±2.0 °C。
- 從 RT 升至 200 °C 的升溫時間約 35 分鐘。
- 採用 SSR(固態繼電器)的無接點等週期脈寬調變加熱控制。
- K 型鎧裝熱電偶測溫。
- 空氣循環,使工作空間內熱量分布均勻。
- 不鏽鋼內膽結構,配多層擱板。
- PLC 或觸控螢幕控制器;可選資料記錄、遠端監控和 MES 整合。
- 安全功能:漏電斷路器、風機過熱保護、超溫保護、熱熔斷器、風道極限超溫保護。
- RT–200 °C 型號配有觀察玻璃窗;200 °C–500 °C 配置不帶觀察玻璃窗。
- 可選配置包括氮氣惰性烤箱、真空烤箱、Class 100 潔淨烤箱、多箱體烤箱、自動裝載系統、資料記錄系統和 MES 通訊介面。
- 可根據要求客製箱體尺寸、晶圓載具、擱板和夾具。
規格參數
型號範圍
| 參數 | EUT91 | EUT216 | EUT512 | EUT1000 |
|---|---|---|---|---|
| 容積 (m³) | 0.091 | 0.216 | 0.512 | 1.0 |
| 內尺寸 寬x高x深 (mm) | 450x450x450 | 600x600x600 | 800x800x800 | 1000x1000x1000 |
| 外尺寸 寬x高x深 (mm) | 1040x820x635 | 1190x970x785 | 1500x1210x1065 | 1730x1480x1275 |
通用規格
| 參數 | 數值 |
|---|---|
| 型號系列 | 高溫烤箱,EUT |
| 溫度範圍 | RT~200 °C(300~500 °C 可選) |
| 溫度波動度 | ≤ ±0.5 °C |
| 溫度偏差 | ≤ ±2.0 °C |
| 升溫速率 | RT~200 °C,約 35 分鐘 |
| 加熱控制方式 | 無接點等週期脈寬調變,SSR(固態繼電器) |
| 溫度測量 | K 型鎧裝熱電偶 |
| 安全功能 | 漏電斷路器、風機過熱保護、超溫保護、熱熔斷器、風道極限超溫保護 |
| 觀察玻璃窗 | RT~200 °C:帶觀察玻璃窗。200 °C~500 °C:不帶觀察玻璃窗 |
| 電源 | AC220V,單相三線,50/60Hz;AC380V,三相五線,50/60Hz |
標準
該烤箱可配置用於與半導體製造、封裝和可靠性鑑定相關的熱處理。適用標準取決於具體製程、產品和客戶鑑定要求:
- JEDEC JESD22 可靠性標準 — 半導體元件和封裝的常用可靠性試驗方法。
- JEDEC JESD22-A104 溫度循環 — 用於半導體可靠性評價的溫度循環方法。
- SEMI 標準 — 與應用相關的半導體製造規範和設備要求。
最終規格應根據實際熱製程、溫度均勻性、氣氛、潔淨度、裝載方式和生產要求確定,而不能僅依據單一標準。如需為晶圓、封裝或夾具選配箱體尺寸或匹配配置,請將產品尺寸、所需溫度曲線、氣氛和裝載方式聯絡我們 。相關:高低溫濕熱試驗箱 、客製非標試驗箱 。