半導體高溫烤箱 — EUT91 / EUT216 / EUT512 / EUT1000

TestEQ EUT 系列高溫烤箱是一款電加熱、空氣循環式箱體,用於晶圓烘烤與脫水、元器件乾燥、聚合物與光阻固化以及封裝烘烤。它應用於半導體製造、電子產品生產和材料加工領域,這些領域對穩定的溫度控制和可重複的熱循環有較高要求。

應用

  • 晶圓烘烤與晶圓脫水
  • 光阻與聚合物熱處理
  • 半導體封裝:晶片貼裝固化、環氧固化、底部填充固化
  • IC 封裝烘烤與模塑後熱處理
  • 半導體元器件乾燥與除濕
  • 電子元器件烘烤與老化
  • 潔淨熱處理與製程開發(研發)

配置與特點

  • 溫度範圍標配 RT 至 200 °C;可選 300–500 °C。
  • 溫度波動度 ≤ ±0.5 °C,溫度偏差 ≤ ±2.0 °C。
  • 從 RT 升至 200 °C 的升溫時間約 35 分鐘。
  • 採用 SSR(固態繼電器)的無接點等週期脈寬調變加熱控制。
  • K 型鎧裝熱電偶測溫。
  • 空氣循環,使工作空間內熱量分布均勻。
  • 不鏽鋼內膽結構,配多層擱板。
  • PLC 或觸控螢幕控制器;可選資料記錄、遠端監控和 MES 整合。
  • 安全功能:漏電斷路器、風機過熱保護、超溫保護、熱熔斷器、風道極限超溫保護。
  • RT–200 °C 型號配有觀察玻璃窗;200 °C–500 °C 配置不帶觀察玻璃窗。
  • 可選配置包括氮氣惰性烤箱、真空烤箱、Class 100 潔淨烤箱、多箱體烤箱、自動裝載系統、資料記錄系統和 MES 通訊介面。
  • 可根據要求客製箱體尺寸、晶圓載具、擱板和夾具。

規格參數

型號範圍

參數EUT91EUT216EUT512EUT1000
容積 (m³)0.0910.2160.5121.0
內尺寸 寬x高x深 (mm)450x450x450600x600x600800x800x8001000x1000x1000
外尺寸 寬x高x深 (mm)1040x820x6351190x970x7851500x1210x10651730x1480x1275

通用規格

參數數值
型號系列高溫烤箱,EUT
溫度範圍RT~200 °C(300~500 °C 可選)
溫度波動度≤ ±0.5 °C
溫度偏差≤ ±2.0 °C
升溫速率RT~200 °C,約 35 分鐘
加熱控制方式無接點等週期脈寬調變,SSR(固態繼電器)
溫度測量K 型鎧裝熱電偶
安全功能漏電斷路器、風機過熱保護、超溫保護、熱熔斷器、風道極限超溫保護
觀察玻璃窗RT~200 °C:帶觀察玻璃窗。200 °C~500 °C:不帶觀察玻璃窗
電源AC220V,單相三線,50/60Hz;AC380V,三相五線,50/60Hz

標準

該烤箱可配置用於與半導體製造、封裝和可靠性鑑定相關的熱處理。適用標準取決於具體製程、產品和客戶鑑定要求:

  • JEDEC JESD22 可靠性標準 — 半導體元件和封裝的常用可靠性試驗方法。
  • JEDEC JESD22-A104 溫度循環 — 用於半導體可靠性評價的溫度循環方法。
  • SEMI 標準 — 與應用相關的半導體製造規範和設備要求。

最終規格應根據實際熱製程、溫度均勻性、氣氛、潔淨度、裝載方式和生產要求確定,而不能僅依據單一標準。如需為晶圓、封裝或夾具選配箱體尺寸或匹配配置,請將產品尺寸、所需溫度曲線、氣氛和裝載方式聯絡我們 。相關:高低溫濕熱試驗箱 、客製非標試驗箱 。

把試驗標準和受試產品告訴我們

提供試驗標準、受試件尺寸與發熱量、溫度或壓力範圍,我們的工程師會給出對應的試驗箱配置方案。