半导体高温烤箱 — EUT91 / EUT216 / EUT512 / EUT1000

TestEQ EUT 系列高温烤箱是一款电加热、空气循环式箱体,用于晶圆烘烤与脱水、元器件干燥、聚合物与光刻胶固化以及封装烘烤。它应用于半导体制造、电子产品生产和材料加工领域,这些领域对稳定的温度控制和可重复的热循环有较高要求。

应用

  • 晶圆烘烤与晶圆脱水
  • 光刻胶与聚合物热处理
  • 半导体封装:芯片贴装固化、环氧固化、底部填充固化
  • IC 封装烘烤与模塑后热处理
  • 半导体元器件干燥与除湿
  • 电子元器件烘烤与老化
  • 洁净热处理与工艺开发(研发)

配置与特点

  • 温度范围标配 RT 至 200 °C;可选 300–500 °C。
  • 温度波动度 ≤ ±0.5 °C,温度偏差 ≤ ±2.0 °C。
  • 从 RT 升至 200 °C 的升温时间约 35 分钟。
  • 采用 SSR(固态继电器)的无触点等周期脉宽调制加热控制。
  • K 型铠装热电偶测温。
  • 空气循环,使工作空间内热量分布均匀。
  • 不锈钢内胆结构,配多层搁板。
  • PLC 或触摸屏控制器;可选数据记录、远程监控和 MES 集成。
  • 安全功能:漏电断路器、风机过热保护、超温保护、热熔断器、风道极限超温保护。
  • RT–200 °C 型号配有观察玻璃窗;200 °C–500 °C 配置不带观察玻璃窗。
  • 可选配置包括氮气惰性烤箱、真空烤箱、Class 100 洁净烤箱、多箱体烤箱、自动装载系统、数据记录系统和 MES 通信接口。
  • 可根据要求定制箱体尺寸、晶圆载具、搁板和夹具。

规格参数

型号范围

参数EUT91EUT216EUT512EUT1000
容积 (m³)0.0910.2160.5121.0
内尺寸 宽x高x深 (mm)450x450x450600x600x600800x800x8001000x1000x1000
外尺寸 宽x高x深 (mm)1040x820x6351190x970x7851500x1210x10651730x1480x1275

通用规格

参数数值
型号系列高温烤箱,EUT
温度范围RT~200 °C(300~500 °C 可选)
温度波动度≤ ±0.5 °C
温度偏差≤ ±2.0 °C
升温速率RT~200 °C,约 35 分钟
加热控制方式无触点等周期脉宽调制,SSR(固态继电器)
温度测量K 型铠装热电偶
安全功能漏电断路器、风机过热保护、超温保护、热熔断器、风道极限超温保护
观察玻璃窗RT~200 °C:带观察玻璃窗。200 °C~500 °C:不带观察玻璃窗
电源AC220V,单相三线,50/60Hz;AC380V,三相五线,50/60Hz

标准

该烤箱可配置用于与半导体制造、封装和可靠性鉴定相关的热处理。适用标准取决于具体工艺、产品和客户鉴定要求:

  • JEDEC JESD22 可靠性标准 — 半导体器件和封装的常用可靠性试验方法。
  • JEDEC JESD22-A104 温度循环 — 用于半导体可靠性评价的温度循环方法。
  • SEMI 标准 — 与应用相关的半导体制造规范和设备要求。

最终规格应根据实际热工艺、温度均匀性、气氛、洁净度、装载方式和生产要求确定,而不能仅依据单一标准。如需为晶圆、封装或夹具选配箱体尺寸或匹配配置,请将产品尺寸、所需温度曲线、气氛和装载方式联系我们 。相关:高低温湿热试验箱 、定制非标试验箱 。

把试验标准和受试产品告诉我们

提供试验标准、受试件尺寸与发热量、温度或压力范围,我们的工程师会给出对应的试验箱配置方案。